• 電子級三甲基氯硅烷工藝裝置 查看詳細介紹

    電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產(chǎn)品,裝置非標采用耐腐蝕材質(zhì)。PLC 系統采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動(dòng)化程度高,數據精確度及重復性好,安全可靠 并能長(cháng)周期穩定運行

    更新時(shí)間:2024-05-23

    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家

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  • 超臨界高溫高壓反應釜 查看詳細介紹

    超臨界高溫高壓反應釜,主要用來(lái)評價(jià)、研究工藝過(guò)程,探索最佳工藝參數,經(jīng)取樣分析、評價(jià)、數據處理,獲取產(chǎn)品分布、產(chǎn)品性質(zhì)等數據,為中試及工業(yè)化工藝設計提供設計基礎數據。 裝置非標采用耐腐蝕材質(zhì),裝置采用 PLC 控制系統,配置多級關(guān)鍵的保護系統,確保裝置的設備和操作人員的安全。

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  • 連續式反應器 查看詳細介紹

    連續式反應器,主要用來(lái)評價(jià)、研究工藝過(guò)程,探索最佳工藝參數,經(jīng)取樣分析、評價(jià)、數據處理,獲取產(chǎn)品分布、 產(chǎn)品性質(zhì)等數據,為中試及工業(yè)化工藝設計提供設計基礎數據。裝置的整體水平要求自動(dòng)化程度高,數據精確度及重復性好,安全可靠并能長(cháng)周期穩定運行。

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  • 光催化膜分離裝置 查看詳細介紹

    光催化膜分離裝置是一套高效的反應釜評測系統。系統包括氣體控制模塊,溫度控制模塊、反應釜模塊、液體模塊等。 系統為用戶(hù)的原料相態(tài)提供選擇,1路氣體或者是氣體和液體的組合。液體通過(guò)反應釜上加料罐或者液體泵輸送到反應器前的催化劑罐中。對于液態(tài)的原料,它經(jīng)由專(zhuān)用工具及專(zhuān)人,裝入反應釜裝置內。

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  • 濕式氧化實(shí)驗裝置 查看詳細介紹

    濕式氧化實(shí)驗裝置,具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環(huán)形永磁驅動(dòng)靜密封,攪拌力強,無(wú)泄露。適用于石油,化工,制藥,染料,軍工,礦冶,食品等行業(yè)的科研院所,和大專(zhuān)院校的科研領(lǐng)域,尤其適用于大專(zhuān)院校對學(xué)生進(jìn)行示范性試驗。

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